其特征在于,制备方法如下: (1)去除碳化硅粉体表面可溶性金属反离子和二氧化硅薄膜;以稀酸球磨清洗碳化硅粉体12~24小时,然后将酸性洗液抽滤掉,再以蒸馏水清洗碳化硅粉体...
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